如何控制洁净室的温湿度？洁净空间的温湿度首要是依据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的度感。云南净化提示跟着空气洁净度要求的进步，呈现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。详细工艺对温度的要求今后还要列举，但作为总的准则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度动摇范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路出产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热胀大系数的差要求越来越小。云南净化提示压力差的坚持一般应符合以下准则：洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。

    洁净度等级高的空间的压力要高于相邻的洁净度等级低的空间的压力。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性胀大，所以有必要有±0.1度的恒温，所以压力差的物理含义就是漏泄（或渗透）风量经过洁净室的各种缝隙时的阻力。一起要求湿度值一般较低，由于人出汗今后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超越25度。关于硅片出产比较佳温度范围为35—45。关于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需求坚持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。相对湿度在50时易生锈。此外，湿度太高时将经过空气中的水分子把硅片外表粘着的尘埃化学吸附在外表耐难以铲除。

    相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30时，昆明净化提示又由于静电力的效果使粒子也容易吸附于外表，湿度过高发生的问题更多。相对湿度超越55时，水管壁上会结露，假如发生在精细设备或电路中，就会引起各种事故。一起许多半导体器件容易发生击穿。云南净化http://www.666666788.cn/gongsixinwen相通洁净室之间的门要开向洁净度等级高的房间。压力差的坚持依靠新风量，这个新风量要能补偿在这一压力差下从缝隙漏泄掉的风量。